RELMICROS HABERLERİ
Poster, cihaz seviyesindeki etkisini yeterli BTI Reaksiyon Difüzyon modeli kullanarak ve devre seviyesindeki etkisini 16nm düğümler için araştırarak, BTI yaşlanma bozulmasına karşı daha güçlü teknolojiyi tespit eden RelMicroS araştırmasının sonuçlarını sunmuştur. IPFA 2016, IEEE Güvenilirlik/CPMT/ED Singapur Bölümü tarafından organize edilmektedir.
Makale, cihaz seviyesindeki etkisini yeterli BTI Reaksiyon Difüzyon modeli kullanarak ve devre seviyesindeki etkisini 16nm düğümler için araştırarak, BTI yaşlanma bozulmasına karşı daha güçlü teknolojiyi tespit eden RelMicroS araştırmasının sonuçlarını sunmuştur. IPFA 2016, IEEE Güvenilirlik/CPMT/ED Singapur Bölümü tarafından organize edilmektedir.
RelMicroS, FinFET teknolojisine odaklanarak, VLSI güvenilirlik araştırması üzerine VLSI Araştırma Laboratuvarı ile işbirliği yapacaktır. VLSI Araştırma Laboratuvarı, yarıiletken cihazlara ve IC güvenilirliğine odaklanan UM'nin lider bir araştırma laboratuarıdır. UM, Malezya'nın önde gelen, lider araştırma üniversitesidir. QS 2016 sıralamasına göre, UM Mühendislik Fakültesi dünya çapında 54. sıradadır.